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設備名
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型式 ‐ 能力
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台数 |
ロータリー研削盤
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NVG7500DF(自社仕様) |
1 |
ロータリー研削盤 |
NVG1000DF(自社仕様) |
3 |
NC切断機 |
自社仕様800x1000 |
1 |
NC切断機 |
自社仕様400x600 |
1 |
自動供給芯取機(二ツ宮) |
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17 |
外周加工機 |
自社仕様φ500 |
2 |
両面ラップ盤(一次Lap) |
16BF4M*(自社仕様) |
1 |
両面ラップ盤(一次Lap) |
16BN3M*(自社仕様) |
1 |
両面ラップ盤(一次Lap) |
24BFS4M*(自社仕様) |
1 |
両面ラップ盤(二次Lap) |
9BF2M*(自社仕様) |
1 |
両面ラップ盤(二次Lap) |
9BF4M*(自社仕様) |
1 |
両面ラップ盤(二次Lap) |
16BF2M*(自社仕様) |
3 |
両面ラップ盤(二次Lap) |
24BFS4M*(自社仕様) |
1 |
両面ラップ盤(一次Pol) |
9BF4M*(自社仕様) |
4 |
両面ラップ盤(一次Pol) |
9BN3M*(自社仕様) |
1 |
両面ラップ盤(一次Pol) |
SPEEDFAM 5P-IV |
2 |
両面ラップ盤(一次Pol) |
16BF2M*(自社仕様) |
6 |
両面ラップ盤(一次Pol) |
16BF4M*(自社仕様) |
4 |
両面ラップ盤(一次Pol) |
16BN3M*(自社仕様) |
3 |
両面ラップ盤(一次Pol) |
22BN3M* |
1 |
両面ラップ盤(一次Pol) |
24BF4M*(自社仕様) |
3 |
両面ラップ盤(二次Pol) |
9BF4M*(自社仕様) |
2 |
両面ラップ盤(二次Pol) |
16BF4M*(自社仕様) |
1 |
両面ラップ盤(二次Pol) |
22BN3M* |
1 |
自動洗浄機 |
自社仕様 (8槽式) |
1 |
純水・超純水装置 |
自社仕様 (3t) |
1 |
検査クリーンルーム |
Class1000 |
1 |
レーザー干渉計 |
F601 (φ80) |
3 |
レーザー干渉計 |
G102 (φ150) |
2 |
オートコリメーター |
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1 |
斜入射レーザー干渉計 |
200XR |
1 |
クリーンベンチ |
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5 |
排水処理設備(6m3/hr) |
自社仕様 (6m3/Hr) |
1 |
脱水処理設備 |
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1 |
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